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AMP - 無掩模曝光機


 

無掩模曝光機


 

美國IMP(Intelligent Micro Patterning, LLC)公司憑借多年的光刻設備生產經驗和多項無掩模曝光專利技術,已成為無掩模紫外光刻領域的領導者。

 

產品優點:

  • 微米和亞微米光刻 (最小可達到0.6um線寬) 

  • 紫外光直寫曝光,無需掩模,大幅節約了掩模加工費用

  • 靈活性高,可直接通過電腦設計光刻圖形,並可根據設計要求隨意調整。

  • 可升級開放性系統設計。

  • 按照客戶要求可從低端到高端自由配置

  • 使用維護簡單, 設備耗材價格低

  • 應用范圍廣,目前廣泛應用於半導體、生物芯片、微機電系統、傳感器、微化學、光學等領域。


 

 
型號 SF-100 XCEL  SF-100 XPRESS  SF-100 XTREME

光學系統

標准光學

系統

高分辨率光學系統

高分辨率光學系統

高分辨率光學系統

縮小透鏡 None 3X 任選一個 任選一個 標配以下3種縮小透鏡
4X 10X 20X 4X 10X 20X 4X 10X 20X

像素尺寸

(標准配置)

15um

5um

1.25um

0.5um

0.25um

1.25um

0.5um

0.25um

1.25um

0.5um

0.25um

特征尺寸

(標准配置)

 
45um 15um 5um 2um 1um 5um 2um 1um 5um 2um 1um

像素尺寸 (配置Sub-micron)

- - 0.936um 0.390um 0.188um 0.936um 0.390um 0.188um 0.936um 0.390um 0.188um

特征尺寸 (配Sub-micron)

 
- - 0.8um 1.17um 0.60um 2.8um 1.17um 0.60um 2.8um 1.17um 0.60um

套刻精度Overlay accuracy (样品台配置

theta 方向运动)

-

-

+/-2.5um

+/-1.0um

+/-0.5um

+/-2.5um

+/-1.0um

+/-0.5um

+/-2.5um

+/-1.0um

+/-0.5um

樣品台

自動 XYZ 線性驅動樣品台。

XY 行程: 60, 100, 150, 200, 300mm可選, Z 行程5mm 或 25mm可選

 

或選配手動螺杆驅動樣品台 XY 行程100mm, Z 行程 25mm

可選配 theta 方向運動 theta 方向運動為標准配置
 

或選配自動線性驅動樣品台 XY 行程100mm, Z 行程 25mm

- -

設備尺寸

44" W x 26"D x 30"H

60"W x 26"D x 36"H

或, 44"W x 26"D x 30"H

60"W x 26"D x 36"H


 


 


 


最小可達到0.6um線寬