Nou 法國 Cameca - SIMS二次離子質譜儀 . APT原子探針層析技術
自20世紀60年代首創二次離子質譜儀以來,CAMECA已經開發了一套完整的SIMS產品系列。我們的每款高端儀器可確保為特定應用提供最佳性能。
CAMECA原子探針斷層分析術產品系列包括LEAP 5000系列和 EIKOS APT系列。 CAMECA原子探針是與法國魯昂大學的GPM材料研究小組合作開發。

 

CAMECA:SIMS及APT全球领導者:

 

 

IMS 7f-Auto

 
多功能SIMS工具:高通量和全自動化的基准檢測靈敏度
MS 7f-Auto是獲得成功的IMS xf二次離子質譜儀(SIMS)產品系列的最新型號。旨在提高高精度元素和
同位素分析的易用性和生產率,已針對玻璃、金屬、陶瓷、矽基,III-V和II-VI族化合物裝置、散裝物料、
薄膜等一系列頗具挑戰性的應用進行改良,可充分滿足業界對高效裝置開發和製程控制的要求。
 
用於解決各種分析問題的關鍵分析功能
IMS 7f-Auto提供了具有高深度解析度和高動態範圍的無與倫比的深度剖析功能。高透射質譜儀與兩種反
應性高密度離子源(O2+和Cs+)結合,從而提供高濺射速率和極低的檢出限。獨特的光學設計可實
現直接離子顯微鏡和掃描探針成像。
 
提高自動化和作業效率
IMS 7f-Auto配備重新設計的同軸一次離子槍筒,可以更輕鬆、更快速地進行一次離子束調諧,並優化一
次離子束流穩定性。新的自動化程序最大限度地減少了由操作員引起的偏差並提高了易用性。帶有自動
裝載/卸載樣品架的電動儲存室透過分析鍊和遠端操作確保高通量。
 
在高通量下實現高再現性
借助新型電動儲存室和樣品轉移,IMS 7f-Auto能分析鍊式或遠程模式下的多個樣品。測量可完全無人值
守和自動化,無與倫比的通量和可再現性。可實現極高可再現性(RSD<0.5%)、極低的檢出限、高通量
和高生產率(工具可每天24小時使用,幾乎無需操作員幹預)。
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
應用

LED 裝置中的摻雜物監測

 

錫銅導線結構的小區域分析

 

多晶材料的偏析和擴散

 

雜質控制

 

 
LEAP 5000
三維原子探針顯微鏡具有無與倫比的三維亞奈米分析性能。 LEAP 5000是CAMECA
的尖端原子探針顯微鏡,可在各種金屬、半導體和絕緣體上提供卓越的探測效率:
每立方奈米的分析可探測到40%以上的額外原子。

LEAP 5000能夠在短短數小時內收集來自微型資料集的奈米級信息,同時提高組分
準確度、精密度、檢出限和樣品通量,增加產量並達到最佳再現性。
• 提高探測效率,達到無與倫比的靈敏度
• 大視野與探測均質性-最佳三維空間分辨率
• 出色的多重命中偵測功能可以實現最精確的組分測量
• 用於超高速資料擷取的快速和可變重複率
• 強大且符合人體工學的平台可提高易用性並縮短熟悉時間
• 即時監測以確保每次測量都能獲得最高品質的數據
• 先進的雷射控制演算法可顯著提高樣品產率
 
 
 

 

系列:
LEAP 5000 XS
LEAP 5000 XR
LEAP 5000 R
結合新飛行路徑技術和優化探測器性能,提 供更大視場,同時實現無可匹敵探測效率( 約80%),高於任何其他同類分析技術!此 外,先進的雷射脈衝模組能提供高達2 MHz 重複率,使LEAP 5000 XS在效率和生產力方 面達到最高水準。
結合先進反射鏡設計與優化探測器性能(探 測效率提高至約50%),具備重複率高達 500kHz先進雷射脈衝優點。 LEAP 5000 XR 是眾多研究開發應用中功能最強大的原子 探針。

 

憑藉可增加40%的脈衝幅度並提供高達500kHz脈衝重複率的改進電壓脈衝系統,結合新型先進反射器設計和優化探測器性能,LEAP 5000 R已成為有史以來功能最強大的電壓型原子探頭。

 

應用 :

 
磁致伸縮材料界面分析
相變分離過程的研究
摻雜物的原子尺度表征
金屬晶界分析
  
 

 

 

法國 Cameca - SIMS二次離子質譜儀 . APT原子探針層析技術

  • 品 牌 CAMECA
  • 型 號 France Cameca - SIMS & APT
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