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Akrometrix於1994年成立於美國佐治亞州亞特蘭大, 全球著名的平整度特性測量與分析技術先鋒。 提供全面測量解決方案的領導者,爲全球微電子工業市場提供先進的基板及封裝測量解決方案。TherMoiré 設備系列能提供廣泛的平整度檢測特性技術。是溫度效應測量技術的行業先鋒,全球二十大半導體生產商,都採用了Akrometrix的解決方案。
滿足國際標準: IPC-9641,JESD22-B112A,日本JEITA ED-7306,JEDEC 22B112
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Shadow Moiré 技術 Shadow Moiré 是一種非接觸式,全視野的光學技術,用樣品上的參考光柵和它的影子之間的幾何干擾產生摩爾雲紋分佈圖(Moiré Pattern),進而計算出各像素位置中的相對垂直位移。它需要一個倫奇刻劃光柵(Ronchi-ruled grating),一條大約45度角的光源和一個垂直於光柵的相機。 |
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旗艦機型
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產品特性• 最小樣品尺寸 : 2 mm x 2 mm • 在 2 秒內獲得 170 萬個資料點 • Warpage 分辨率 500nm(300 LPI光柵) • 上、下加熱器獨立控制 • 支援溫度範圍 -55ºC~350ºC • 最高加熱速率 50°C ~250°C, 3.5ºC/s • 最高降溫速率 250°C ~125°C, 2.25ºC/s • 可集成DFP及DIC技術 自動化控制 |
針對細小樣品也能測量熱變形 |
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印刷電路板
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插座
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QFN (3mm x 3mm)
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上/下加熱模塊 (with Top/Bottom Heating Chamber)
• 上下兩個加熱區域使得測量物的溫差<±5ºC
• 可以測量不噴漆的樣品
• 來自前後的雙重降溫裝置,及左、右和底部的3倍排氣通道,帶來更快、更均勻的降溫效果
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Unpainted 樣品 |
Top/Bottom Heater圖 |
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Digital Fringe Projection - DFP3 解決方案模組
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Sub-Room Module - SRM低溫模組
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Akrometrix Studio 軟件包 一套先進的集成軟件模塊,提供最全面的表面表徵和分析能力運作。當運用TherMoiré AXP 3 系統時,Studio可組成一套測量解決方案,產生快速,全面表徵了廣泛的微電子部件和組件的表面信息。Studio使用不同種類的強大圖形和分析功能爲用戶得出結論,並作出決定。
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