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NIL Technology (NILT) 是一家以製作並經銷奈米壓印光刻模版為主，集壓印服務、生產以及諮詢為一體的專業技術公司。 NILT 同時也致力於拓展奈米結構的新興應用領域，並取得了卓越的成就。我們的模版可以根據客戶對所刻圖案的樣式和材料的具體要求進行特別加工。
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奈米壓印設備 :
CNI v3.0 - 桌面式奈米壓印設備
容易複製微奈米結構，支援熱壓和紫外線(UV)壓印，即插即用，用途廣泛，專為R&D設計。
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用於眼球追蹤的超透鏡相機 - metaEye™
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特點：
1. 桌面尺寸的奈米壓印工具
2. 熱壓印溫度最高可達250 oC
3. 紫外線壓印採用365 nm曝光波長(選配 405nm)
4. 壓印壓力從0.3 bar至11 bar
5. 真空條件下壓印(降至1 mbar)
6. 模板及基片尺寸:最大可達直徑 210 mm
7. 適用於各種不同形狀的模板和基片
8. 簡單而堅固的工具很容易修復
9. 手動裝入、取出模板和基片，過程全自動控制
10. 所有配方和處理流程的日誌記錄
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關鍵應用 (DOE, MOE, AR/MR)
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