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Veeco (Cambridge Nanotech)，2003年成立於哈佛大學，05年搬到Boston並生產推出Thermal ALD - Savannah機型，之後再生產推出Plasma ALD – Fiji機型、批量生產ALD-Phoenix機型。2017年被Veeco收購，隨後對旗下機型作出了升級迭代。至今爲止，Veeco在ALD設備已有十多年經驗，全球已安裝五百多臺ALD設備。 |
Veeco ALD 設備主要分爲以下五種型號：
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應用於TEM樣品製備
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部分有機物襯底，例如光刻膠，不能耐受高溫，需要在低溫下沈積薄膜。Savannah和Fiji均具備在低溫下沈積薄膜並保證質量的優異特性
使用Savannah 100 or S200 沉積HfO2 用於TEM，溫度範圍在60-150ºC
針對200mm襯底，不均勻性<1.5% |
如果使用LVPD附件，可以在室溫下沉積HfO2
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