美國 Veeco - HfO鍍膜機（配合TEM使用）
美國 Veeco - HfO鍍膜機（配合TEM使用）
Veeco (Cambridge Nanotech)，2003年成立于哈佛大學，05年搬到Boston並生産推出Thermal ALD-Savannah機型，之後再生産推出Plasma ALD – Fiji機型、批量生産ALD – Phoenix機型。2017年被Veeco收購，隨後對旗下機型作出了升級叠代。至今爲止，Veeco在ALD設備已有十多年經驗，全球已安裝五百多台ALD設備。

 

VEECO ALD設備主要分爲以下三種型號：

 

 

應用於TEM樣品製備
得益于原子層沈積的保形性特性，可以在複雜圖形的表面完整且致密的生長厚度僅僅十幾甚至幾個納米的薄膜，非常適合用于TEM原子序數襯度薄膜。
 

     

 

部分有機物襯底，例如光刻膠，不能耐受高溫，需要在低溫下沈積薄膜。Savannah和Fiii均具備在低溫下沈積薄膜並保證質量的優異特性

HfO2 Process Window – Hf(NMe2)4

使用Savannah 100 or S200 沉積HfO2 用於TEM，溫度範圍在60-150ºC
針對200mm襯底，不均勻性<1.5%

Test Case:  TEMAH delivery at 28°C 

 

 

200°C Process Recipe
H2O (0.015s pulse, 5s purge)
TEMAH (6s pulse, 5s purge, 28°C)
PTEMAH vapor = ~0.01Torr
Film Uniformity
200mm Std Dev(1-sigma) < 4%
 
如果使用LVPD附件，可以在室溫下沉積HfO2

 

美國 Veeco - HfO鍍膜機（配合TEM使用）

  • 品 牌 Veeco
  • 型 號 Veeco USA - Atomic Layer Deposition Systems
  • 庫存狀態 有現貨
  • $0.00
查詢
收藏 對比