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AMP - 无掩模曝光机


 

无掩模曝光机


 

美国IMP(Intelligent Micro Patterning, LLC)公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光专利技术,已成为无掩模紫外光刻领域的领导者。

 

产品优点:

  • 微米和亚微米光刻 (最小可达到0.6um线宽) 

  • 紫外光直写曝光,无需掩模,大幅节约了掩模加工费用

  • 灵活性高,可直接通过电脑设计光刻图形,并可根据设计要求随意调整。

  • 可升级开放性系统设计。

  • 按照客户要求可从低端到高端自由配置

  • 使用维护简单, 设备耗材价格低。

  • 应用范围广,目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。


 

 
型号 SF-100 XCEL  SF-100 XPRESS  SF-100 XTREME

光学系统

标准光学

系统

高分辨率光学系统

高分辨率光学系统

高分辨率光学系统

缩小透镜 None 3X 任选一个 任选一个 标配以下3种缩小透镜
4X 10X 20X 4X 10X 20X 4X 10X 20X

像素尺寸

(标准配置)

15um

5um

1.25um

0.5um

0.25um

1.25um

0.5um

0.25um

1.25um

0.5um

0.25um

征尺寸

(标准配置)

 
45um 15um 5um 2um 1um 5um 2um 1um 5um 2um 1um

像素尺寸 (配置Sub-micron)

- - 0.936um 0.390um 0.188um 0.936um 0.390um 0.188um 0.936um 0.390um 0.188um

征尺寸 ((配置Sub-micron)

 
- - 0.8um 1.17um 0.60um 2.8um 1.17um 0.60um 2.8um 1.17um 0.60um

套刻精度Overlay accuracy (样品台配置

theta 方向运动)

-

-

+/-2.5um

+/-1.0um

+/-0.5um

+/-2.5um

+/-1.0um

+/-0.5um

+/-2.5um

+/-1.0um

+/-0.5um

样品台

自动 XYZ 线性驱动样品台。

XY 行程: 60, 100, 150, 200, 300mm可选, Z 行程5mm 或 25mm可选

 

或选配手动螺杆驱动样品台 XY 行程100mm, Z 行程 25mm

可选配 theta 方向运动 theta 方向运动为标准配置
 

或选配自动线性驱动样品台 XY 行程100mm, Z 行程 25mm

- -

设备尺寸

44" W x 26"D x 30"H

60"W x 26"D x 36"H

或, 44"W x 26"D x 30"H

60"W x 26"D x 36"H


 


 


 


最小可达到0.6um线宽